感應(yīng)耦合等離子刻蝕設(shè)備
- 制造廠商：SENTECH
- 購(gòu)置日期：暫無(wú)信息
- 型號(hào)：SI500D
- 生產(chǎn)國(guó)別：德國(guó)
- 儀器類別：工藝實(shí)驗(yàn)設(shè)備
- 安放地址：上海市
跨區(qū)域科技政策：
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上海
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- 儀器詳情
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該設(shè)備是ICP-PECVD設(shè)備，用于在基片上沉積SiOx, SiOxNy或SiNy薄膜。沉積薄膜的厚度、折射率、應(yīng)力可以簡(jiǎn)單的、連續(xù)的調(diào)節(jié)。SI500D型號(hào)帶LOADLOCK功能。
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暫無(wú)信息
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暫無(wú)信息
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可以在最大尺寸為200mm的多種晶圓片上的進(jìn)行沉積；適用于室溫至350℃條件下進(jìn)行的SiO2、SiNx、SiONx a-Si薄膜的沉積；同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積，SiC膜層沉積以及液態(tài)或氣態(tài)源沉積其它材料，尤其適合于有機(jī)材料上高效保護(hù)層膜和特定溫度下無(wú)損傷鈍化膜的沉積。
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電子與通信技術(shù)
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介質(zhì)膜沉積
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暫無(wú)信息
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中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所
機(jī)構(gòu)介紹:
上?？茖W(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所原名中國(guó)科學(xué)院上海冶金研究所，是中國(guó)科學(xué)院所屬以信息微系統(tǒng)技術(shù)的研究與開(kāi)發(fā)為主的高技術(shù)研究所，主要研究領(lǐng)域包括微電子機(jī)械系統(tǒng)、傳感器技術(shù)、無(wú)線信息網(wǎng)絡(luò)、射頻與微波模塊、光電子器件、生物芯片、新型電池技術(shù)等。該所以國(guó)家需求為導(dǎo)向，圍繞“電子科學(xué)與技術(shù)”、“信息與通信工程”兩大新的學(xué)科方向，利用本所在功能材料與器件研究方面的積累和微電子平臺(tái)工藝技術(shù)為支撐，以“小衛(wèi)星、微系統(tǒng)技術(shù)平臺(tái)”兩個(gè)重大項(xiàng)目為依托，以系統(tǒng)帶器件、器件帶材料、加強(qiáng)原始創(chuàng)新，加強(qiáng)關(guān)鍵技術(shù)創(chuàng)新與集成研究，開(kāi)展集成微光機(jī)電系統(tǒng)、天地一體化通信技術(shù)與系統(tǒng)，信息功能材料與器件、微型和新型能源技術(shù)與系統(tǒng)等研究活動(dòng)。中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所。
資質(zhì)能力：
