高真空金屬膜沉積系統(tǒng)
- 制造廠商：Kurt J. Lesker Co.
- 購置日期：暫無信息
- 型號：PVD 75
- 生產(chǎn)國別：美國
- 儀器類別：工藝實驗設(shè)備
- 安放地址：上海市
跨區(qū)域科技政策：
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上海
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- 儀器詳情
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該設(shè)備單步工藝可連續(xù)蒸鍍3種金屬及氧化物材料，有DC及RF模式可選。利用電子束加熱蒸發(fā)材料，在基片表面制備高純薄膜?？捎糜赑t、Au、Ti、Cr、Al、Ag、Ni、Ge、W等多種金屬鍍膜，也可用于SiO2、ITO等氧化物及金屬氧化物半導(dǎo)體材料的沉積，具有沉積材料致密性強、膜厚控制精度高的優(yōu)點。
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暫無信息
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成膜均勻性：優(yōu)于±5%；電子槍電源功率：5Kw；樣品臺：兼容最大至150mm直徑基片及不規(guī)則碎片樣品夾具；坩堝：8個，12cc；樣品轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速：最大20rpm；蒸發(fā)源與基片距離：約23英寸。
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電子與通信技術(shù)
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高真空金屬沉積
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中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所
機構(gòu)介紹:
上?？茖W(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所原名中國科學(xué)院上海冶金研究所，是中國科學(xué)院所屬以信息微系統(tǒng)技術(shù)的研究與開發(fā)為主的高技術(shù)研究所，主要研究領(lǐng)域包括微電子機械系統(tǒng)、傳感器技術(shù)、無線信息網(wǎng)絡(luò)、射頻與微波模塊、光電子器件、生物芯片、新型電池技術(shù)等。該所以國家需求為導(dǎo)向，圍繞“電子科學(xué)與技術(shù)”、“信息與通信工程”兩大新的學(xué)科方向，利用本所在功能材料與器件研究方面的積累和微電子平臺工藝技術(shù)為支撐，以“小衛(wèi)星、微系統(tǒng)技術(shù)平臺”兩個重大項目為依托，以系統(tǒng)帶器件、器件帶材料、加強原始創(chuàng)新，加強關(guān)鍵技術(shù)創(chuàng)新與集成研究，開展集成微光機電系統(tǒng)、天地一體化通信技術(shù)與系統(tǒng)，信息功能材料與器件、微型和新型能源技術(shù)與系統(tǒng)等研究活動。中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所。
資質(zhì)能力：
