無(wú)掩膜直寫(xiě)光刻機(jī)
- 制造廠商：Heidelberg Instruments
- 購(gòu)置日期：暫無(wú)信息
- 型號(hào)：DWL 66+
- 生產(chǎn)國(guó)別：德國(guó)
- 儀器類(lèi)別：工藝實(shí)驗(yàn)設(shè)備
- 安放地址：上海市
跨區(qū)域科技政策：
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上海
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- 儀器詳情
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系統(tǒng)具有高度的靈活性, 不僅可在敷圖有光刻膠的任何平面襯底上進(jìn)行圖形制備，還適用于掩模版加工。具有矢量與光柵掃描曝光兩種模式，可執(zhí)行的文件具有多種文件格式，還可用于三維結(jié)構(gòu)的加工制備。具有背面套刻功能。
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暫無(wú)信息
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光源：405nm或375nm的二極管激光器；基板尺寸：變量：3x3mm2至9"x9"（可根據(jù)要求定制）；基板厚度：0至12毫米；最大曝光面積：200x200平方毫米；分辨率：150nm；溫控流箱：溫度穩(wěn)定性±0.1°，ISO 4環(huán)境；實(shí)時(shí)自動(dòng)對(duì)焦：光學(xué)自動(dòng)對(duì)焦或氣壓計(jì)自動(dòng)對(duì)焦；自動(dòng)對(duì)焦補(bǔ)償范圍：80微米；標(biāo)準(zhǔn)或高級(jí)灰度模式：分別為128/255灰度；矢量模式：允許免拼接線直寫(xiě)；背面對(duì)齊（可選）：允許將曝光對(duì)準(zhǔn)基板背面的結(jié)構(gòu)。
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電子與通信技術(shù)
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制版
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暫無(wú)信息
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2853
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中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所
機(jī)構(gòu)介紹:
上?？茖W(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所原名中國(guó)科學(xué)院上海冶金研究所，是中國(guó)科學(xué)院所屬以信息微系統(tǒng)技術(shù)的研究與開(kāi)發(fā)為主的高技術(shù)研究所，主要研究領(lǐng)域包括微電子機(jī)械系統(tǒng)、傳感器技術(shù)、無(wú)線信息網(wǎng)絡(luò)、射頻與微波模塊、光電子器件、生物芯片、新型電池技術(shù)等。該所以國(guó)家需求為導(dǎo)向，圍繞“電子科學(xué)與技術(shù)”、“信息與通信工程”兩大新的學(xué)科方向，利用本所在功能材料與器件研究方面的積累和微電子平臺(tái)工藝技術(shù)為支撐，以“小衛(wèi)星、微系統(tǒng)技術(shù)平臺(tái)”兩個(gè)重大項(xiàng)目為依托，以系統(tǒng)帶器件、器件帶材料、加強(qiáng)原始創(chuàng)新，加強(qiáng)關(guān)鍵技術(shù)創(chuàng)新與集成研究，開(kāi)展集成微光機(jī)電系統(tǒng)、天地一體化通信技術(shù)與系統(tǒng)，信息功能材料與器件、微型和新型能源技術(shù)與系統(tǒng)等研究活動(dòng)。中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所。
資質(zhì)能力：
