IPEC 472 CMP
- 制造廠商：IPEC
- 購置日期：暫無信息
- 型號(hào)：IPEC 472
- 生產(chǎn)國別：美國
- 儀器類別：工藝實(shí)驗(yàn)設(shè)備
- 安放地址：江蘇省
跨區(qū)域科技政策：
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上海
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南京宿遷淮安徐州泰州鎮(zhèn)江揚(yáng)州鹽成常州無錫南通蘇州連云港
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杭州衢州溫州臺(tái)州舟山金華紹興湖州嘉興寧波麗水余姚
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合肥毫州六安宿州阜陽黃山淮北淮南蚌埠宣城池州滁州安慶銅陵蕪湖馬鞍山
- 儀器詳情
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IPEC?472化學(xué)機(jī)械平坦化系統(tǒng)是全自動(dòng)，單片單面拋光設(shè)備，主要針對(duì)8寸晶圓表面半導(dǎo)體材料去除，高精度平坦化作業(yè)。
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暫無信息
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Within?Wafer?Non--‐Uniformit?TOX,TEOS:≤5%1σ?avg. Wafer?to?Wafer?Non--‐Uniformity(WTW):%1σ?TOX,TEOS:≤3%1σ?avg. Edge?Exclusion?Oxide:≥7mm Wafer?to?wafer?removal?rate?TOX:≥1700?/min,TEOS:≥2000?/min
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信息與系統(tǒng)科學(xué)相關(guān)工程與技術(shù)
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8寸硅晶圓表面拋光，8寸晶圓表面不同半導(dǎo)體工藝沉積的氧化硅薄膜進(jìn)行平坦化拋光工藝服務(wù)
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暫無
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1500元/小時(shí)，最低預(yù)約工藝機(jī)時(shí)2小時(shí)。
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暫無信息
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